Отечественная команда при содействии Национальной технологической инициативы (НТИ) анонсировала разработку многолучевого электронного литографа, предназначенного для выпуска современных микросхем. Основой установки выступает мультикатод, который обеспечивает генерацию сразу нескольких пучков электронов вместо традиционного одиночного луча. Как подсчитали авторы проекта, это позволит сократить процесс экспонирования кремниевой пластины с полутора-двух недель до 5–7 минут, что примерно в 3 тыс. раз быстрее по сравнению с однолучевыми системами.

В беседе с «Известиями» ведущий разработчик проекта Евгений Гиваргизов сообщил, что технология мультикатода уже готова и успешно прошла практическую проверку. Он отметил, что, в отличие от зарубежных аналогов, где единый электронный пучок расщепляется при помощи сложной системы зеркал и затворов, российское решение создает множество автономных источников электронов на одной подложке. Такой подход, по его словам, способен удешевить оборудование и уменьшить требования к инженерной инфраструктуре.

Создатели проекта намерены изготовить первый опытный экземпляр литографа приблизительно через три года. Предполагается, что данная технология найдет применение в производстве микросхем с разными технологическими нормами — от 350 нм до нескольких нанометров.

Эксперт НТИ по микроэлектронике и электронной промышленности Сергей Сазонов считает, что идея многолучевой электронной литографии является перспективной, и в случае успешной реализации она сможет ускорить производственные процессы и уменьшить зависимость России от импортного оснащения.

Детальнее — в эксклюзивном материале «Известий»:

Выйти на платы: российский литограф ускорит производство микросхем в 3 тыс. раз